Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布資料。DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面組合運用，從而產(chǎn)生很多的散射光波智能化。這些光波會互相干涉從而影響散射強度方案，散射強度隨時間不斷波動，二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系組建。粒子的擴(kuò)散現(xiàn)象（或布朗運動）導(dǎo)致光強不斷波動用的舒心。光強的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關(guān)器分析隨時間而變的光強波動就可以得到粒度分布系數(shù)（Particle size distribution, PSD）深入交流研討。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個指數(shù)衰減函數(shù)模式，由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴(kuò)散率。終集聚效應，粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計算得到貢獻。

大部分樣品一般都不均勻，往往會呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài)提升，即測出來的粒徑正態(tài)分布范圍會比較大持續，直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成提單產，每一個指數(shù)衰減函數(shù)都會因指數(shù)衰減時間不同而存在差異核心技術，此時計算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡單。

Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運用了去卷積算法來轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù)設計，從而得出接近真實值的粒度分布創新能力。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復(fù)雜的樣品體系，利用一組*的去卷積算法將簡單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法發展，即得到PSS粒度儀公司*的粒徑分布表達(dá)方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）改進措施。

有些儀器的高斯分析模式可以使用基線調(diào)整參數(shù)的功能，以此來補償測試環(huán)境太臟而超出儀器靈敏度的問題效果。高斯分析模式也可以允許使用者“固體重量模式”或者“囊泡重量模式”來分析帶有小囊泡的膠體體系發展的關鍵，比如脂質(zhì)體。

Nicomp分析方法是一種的高分辨率的去卷積算法溝通機製，它在1990年提出并應(yīng)用于分析和統(tǒng)計粒徑分布。在歷*已經(jīng)證明Nicomp分析方法能夠分析非常復(fù)雜的雙峰樣品分散體系（比如 2：1比例）體系，甚至是三峰樣品分散體系宣講活動。在科學(xué)研究中，找到粒子聚集分布的雜峰是非常有用的註入新的動力。