Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀是專門用于測量納米級顆粒以及膠體樣品體系的粒度分析儀器關鍵技術，其測量范圍為 0.3 nm - 10 μm特點。Nicomp 380 已經(jīng)成為眾多研究人員和*科學(xué)家的。儀器所擁有*的基線調(diào)整自動補償能力和高分辨率多模式算法服務體系，多年來不同領(lǐng)域的使用證明了它可以區(qū)分開單峰樣本體系和無約束復(fù)雜多峰樣本體系信息化，是研發(fā)的*選擇服務水平！Nicomp 380系列儀器是*在應(yīng)用動態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的粒度儀合作◇w驗區？纱钶d自動進樣系統(tǒng)提單產、自動稀釋系統(tǒng)核心技術、多角度探測及高濃度背光散射和在線監(jiān)測等模塊，隨著模塊的升級和增加設計， Nicomp 380 可以更快更的用于各種復(fù)雜樣品的檢測分析創新能力。

    該儀器結(jié)合了動態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS），實現(xiàn)了同機測試亞微米粒子分布和ZETA電勢電位主動性。ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來的一種新型光散射發展，它的光散射理論基礎(chǔ)是準彈性碰撞理論，在實驗時通過在樣品槽中外加一個外電場範圍，帶電粒子即會以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動效果，與之相應(yīng)的動態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此由實驗測得的譜線的漂移求得平衡，就可以求得帶電粒子的電泳速度系統穩定性，從而得到ζ-電位值。通過測試顆粒之間排斥力 平臺建設，判斷體系穩(wěn)定性的測量手段之一重要組成部分。并且配備靶電極，經(jīng)久耐用先進技術。

    Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀可廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥領(lǐng)域：乳劑傳承，注射劑，脂質(zhì)體合作，膠體具有重要意義，混懸劑，滴眼液，高分子勃勃生機，病毒，疫苗等宣講手段；半導(dǎo)體領(lǐng)域： CMP Slurry多種，芯片，晶圓加工等極致用戶體驗；特殊化工品：墨水&噴墨強大的功能，納米材料，化工染料充分發揮，潤滑劑與時俱進，清洗劑等。