NICOMP 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀采用的設計理念優(yōu)化結構設計項目，充分有效地融合了動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術再獲，即可以多角度（步長0.9°）檢測分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布開拓創新，又可以小角度測量Zeta電位。粒度測試范圍：0.3nm–10μm各項要求。

電泳光散射法（ELS）與粒子的動電（Zeta）電位：

 

ELS 是將電泳和光散射結合起來的一種新型光散射大面積。它的光散射理論基礎是 準彈性碰撞理論，只是在實驗時在式樣槽中多加一個外電場優勢與挑戰，帶電粒子即以固定 速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動集成應用，與之相應的動力光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度部署安排，因此實驗測得譜線的漂移競爭激烈，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而求得ζ-電位效果。
 

Nicomp 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀通過檢測分析膠體顆粒的電泳遷移率測量Zeta電位學習。Zeta電位是對顆粒之間相互排斥或吸引力的強度的度量，是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標改善，Zeta電位（正或負）越高，體系越穩(wěn)定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力推廣開來。由于大部分的水相膠體體系是通過粒子之間的靜電排斥力來保持穩(wěn)定的自行開發，粒子之間的排斥力越大，粒子越不容易發(fā)生聚集取得顯著成效，膠體也會越穩(wěn)定處理方法。Nicomp 380 ZLS&S結合了動態(tài)光散射技術（DLS）和電泳光散射法（ELS），實現(xiàn)了同機測試納米粒子分布和Zeta電勢電位責任。