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Apex Mill 立式砂磨機(jī)

簡(jiǎn)要描述:Apex Mill 立式砂磨機(jī)采用離心式磨珠分離器應(yīng)對(duì)微珠分離機構,可使用Φ15μm至1 mm的磨珠長足發展。當(dāng)使用Φ0.1mm或更小的磨珠進(jìn)行處理時(shí),能應(yīng)對(duì)100nm以下的納米粒子的漿料分散產品和服務。例如無(wú)機(jī)化合物高質量發展,例如陶瓷的原料高產,電子材料,光學(xué)材料等以及顏料示範推廣。

  • 更新時(shí)間:2024-10-31
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:3418
詳情介紹

Apex Mill 立式砂磨機(jī)情況,可高效地進(jìn)行亞微米至微米級(jí)細(xì)顆粒的研磨。

概要

Apex Mill 立式砂磨機(jī)大大縮短,粉碎容器的外部帶有冷卻套堅持好,內(nèi)部設(shè)有攪拌器。容器底部有磨珠分離器高質量。 攪拌部的設(shè)計(jì)具有內(nèi)部攪拌空間大且磨珠轉(zhuǎn)速快的特點(diǎn)構建,是粉碎速度高效的濕式珠磨粉碎機(jī)。內(nèi)置的狹縫式磨珠分離器由一個(gè)可移動(dòng)的錐形塞構(gòu)成積極參與,設(shè)置于容器底部優勢領先,其在漿液出口處形成一道狹窄的縫隙用來(lái)分離磨珠經驗分享√接??墒褂玫哪ブ榱綖棣?/span>0.3㎜~φ5㎜新技術。

這個(gè)磨珠分離器可以通過(guò)感知到的內(nèi)部壓力變化了解縫隙間的堵塞狀況,從而來(lái)調(diào)節(jié)縫隙的寬度共創美好。當(dāng)內(nèi)部壓力增加時(shí)趨勢,間隙會(huì)自動(dòng)變寬,以防止縫隙堵塞預判。因此,即使使用細(xì)小磨珠或處理高粘性漿液,縫隙也不容易被堵塞調解製度。

這臺(tái)濕式磨珠粉碎機(jī)深入,主要用于研磨2微米至數(shù)百微米的顆粒。成品漿液中的粒子粒徑為150nm到幾微米覆蓋範圍。該粉碎機(jī)適用于礦物質(zhì)一站式服務,陶瓷材料,磨料前沿技術,食品和化妝品的研磨和捏合支撐作用,也可用于納米藥物的粉碎。

點(diǎn)

1.濕式珠磨機(jī)深入交流,用于研磨漿液中微米至亞微米級(jí)的顆粒解決!

這臺(tái)珠磨機(jī)可根據(jù)強(qiáng)大的攪拌力和合適的磨珠填充量,來(lái)對(duì)應(yīng)各種材料的高效粉碎處理了解情況。由于磨珠粒徑的適用范圍廣(0.35mm)參與能力,可根據(jù)加工目的選擇最佳的磨珠粒徑。

2.Apex Mill適用于粉碎處理高粘度的漿料(最大30,000mPa s)長期間!

磨珠分離器的狹縫部可進(jìn)行調(diào)整註入了新的力量,因此即使是處理高粘度的漿料,磨珠分離部也不會(huì)發(fā)生堵塞異常狀況。另外說服力,由于珠磨機(jī)中的漿料流向是向下的,磨珠會(huì)集中于位于下方的主要粉碎處理區(qū)域更多可能性,即使在處理粘度為30,000 mPa s的漿料深刻變革,也不會(huì)存在磨珠偏移的問(wèn)題。該磨珠機(jī)能夠處理類(lèi)似于高濃度漿液和食品醬等的高粘度漿料分析。

3.拆卸和組裝的操作簡(jiǎn)單至關重要,殘留漿料的回收簡(jiǎn)單方便能力建設!

Apex磨機(jī)是立式珠磨機(jī),其設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單,組裝拆卸過(guò)程十分簡(jiǎn)單飛躍。只需向下移動(dòng)磨珠分離器的錐形塞子緊迫性,即可輕松回收粉碎機(jī)中的殘留漿料質生產力。

4.Apex Mill可減少由磨珠損耗引起的雜質(zhì)污染的粉碎處理機構!

Apex Mill的漿液流動(dòng)方向與重力方向相同,磨珠的位置相對(duì)穩(wěn)定提升行動,且可設(shè)置的粉碎處理?xiàng)l件自由度高更適合,范圍廣,通過(guò)設(shè)置合適的粉碎條件可抑制磨珠的損耗交流。在醫(yī)藥行業(yè)中的原料藥粉碎處理上引人註目,我們?nèi)〉眠^(guò)雜質(zhì)濃度低于1ppm的實(shí)績(jī)。

5.具有良好的清潔性溝通協調!

對(duì)于衛(wèi)生要求相對(duì)高的行業(yè)中拓展,例如食品,化妝品和醫(yī)藥等活動,我們還提供具有完備清潔性的粉碎裝置。為此,我們對(duì)死角位置和密封接合處的形狀進(jìn)行了改善優勢與挑戰。

image.png

結(jié)構(gòu)圖

image.png

運(yùn)行條件

適用磨珠粒徑

Φ0.3mm?Φ5mm

攪拌器轉(zhuǎn)速

5m/s?12m/s

應(yīng)用和成品示例

電子材料(例如氧化鈦集成應用,鈦酸鋇),顏料問題分析,金屬(例如銅迎來新的篇章,銀,鈀)不負眾望,農(nóng)藥共同學習,食品等

Apex Mill的主要規(guī)格

模型                    

內(nèi)部容積
(L)                    

驅(qū)動(dòng)馬達(dá)
(kW)                    

大約外型尺寸 (m)                    

大約重量 (kg)                    

長(zhǎng)度
(m)                    

寬度
(m)                    

高度
(m)                    

AM-1                    

1                    

2.2                    

0.75                    

0.40                    

1.05                    

200                    

AM-2                    

2                    

5.5                    

0.89                    

0.50                    

1.31                    

325                    

AM-5                    

5                    

7.5                    

1.05                    

0.65                    

1.55                    

400                    

AM-10                    

10                    

15                    

1.40                    

0.70                    

1.85                    

600                    

AM-30                    

30                    

55                    

2.00                    

0.85                    

2.30                    

2500                    

Lineup of Apex Mill Series

產(chǎn)品                    

概要                    

適用珠子尺寸                    

Apex Mill                    

磨珠機(jī)
 立式珠磨機(jī),用于研磨微米至亞微米的顆粒                    

φ0.3mm~φ5mm                    

Ultra Apex Mill                    

對(duì)應(yīng)微米級(jí)磨珠的磨珠粉碎機(jī)
 使用的微珠用于納米研磨和納米分散推動並實現??蓱?yīng)對(duì)直徑0.015毫米的磨珠                    

φ15μm~φ1mm                    

Dual Apex Mill                    

雙軸微珠磨機(jī)
 該微珠磨機(jī)可用于納米分散,特別是對(duì)晶體的損害小更加完善。                    

φ15μm~φ1mm                    

Wide Separator Apex Mill                    

長(zhǎng)型珠磨機(jī)薄弱點,大流量高,高粘度漿液高
 能夠應(yīng)對(duì)高流速和高粘度的納米分散                    

φ15μm~φ0.3mm                    

Ultra Apex Mill Advance                    

均質(zhì)納米分散機(jī)(粒子損傷芯珳收{控。?/span>
 為納米分散提供了合適的條件效高,晶體損傷小。                    

φ15μm~φ0.3mm                    




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